65x2.9x2mm Υποστρώματος Ζαφειριού, Υψηλής Ακρίβειας Στιλβωμένη Βάση Φορέα Εξοπλισμού Λέιζερ

Τόπος καταγωγής Κίνα
Ποσότητα παραγγελίας min 10 τεμάχια
Συσκευασία λεπτομέρειες Κυματοειδές χαρτοκιβώτιο εξαγωγικής ποιότητας με προστασία από αφρό
Χρόνος παράδοσης 7-15 Εργάσιμες Ημέρες
Όροι πληρωμής T/T, PayPal, Western Union
Λεπτομέρειες
Διάσταση 65 x 2,9 x 2 mm Υλικό Μονόκρυσταλλο ζαφείρι (αλουμίνα)
Φινίρισμα Επιφανείας Ακριβότητα Γέμισμα και γυάλισμα Ανοχή Σφιχτή διαστατική ανοχή
Μόνωση Μεγάλη μονωτική απόδοση Προσαρμογή Γυάλισμα μονής/διπλής πλευράς, σχισμές, διάτρηση, επίστρωση
Επισημαίνω

Υπόστρωμα Ζαφειριού 65x2.9x2mm

,

Υπόστρωμα Φορέα Εξοπλισμού Λέιζερ

,

Υπόστρωμα Παραθύρου Οπτικού Οργάνου

Αφήστε ένα μήνυμα
Περιγραφή προϊόντων
Υπόστρωμα Ζαφειριού 65x2.9x2mm Βάση Φορέα Εξοπλισμού Λέιζερ Ακριβείας Στιλβωμένο
Όνομα προϊόντος

Το υπόστρωμα ζαφειριού είναι ένα εξάρτημα λεπτής λωρίδας ακριβείας με διαστάσεις 65 x 2,9 x 2mm, κατασκευασμένο από μονοκρυσταλλικό ζαφείρι για απαιτητικές οπτικές εφαρμογές και εφαρμογές λέιζερ. Το υπόστρωμα είναι ακριβείας λείανσης και στίλβωσης σε στενές διαστατικές ανοχές, παρέχοντας μια επίπεδη, καθαρή επιφάνεια για τη στήριξη οπτικών στοιχείων και εξαρτημάτων λέιζερ. Χωρίς καθίζηση σε μακροχρόνια χρήση σε υψηλές θερμοκρασίες και με εξαιρετική μονωτική απόδοση, το υπόστρωμα διατηρεί την καθαρότητα και τη σταθερότητα σε ακραίες συνθήκες λειτουργίας. Η μηχανική του αντοχή και η αντοχή στη φθορά είναι πολύ ανώτερες από το τήγμα πυριτίου, καθιστώντας το μια ανθεκτική επιλογή για παράθυρα οργάνων, βάσεις αισθητήρων και φορείς εξοπλισμού λέιζερ.

Προδιαγραφή
ΠαράμετροςΠροδιαγραφή
Διάσταση65 x 2,9 x 2mm
ΥλικόΜονοκρυσταλλικό ζαφείρι (οξείδιο του αργιλίου)
Φινίρισμα επιφάνειαςΑκριβείας λείανση και στίλβωση
ΑνοχήΣτενές διαστατικές ανοχές
ΜόνωσηΕξαιρετική μονωτική απόδοση
ΠροσαρμογήΜονή/διπλή πλευρική στίλβωση, εγκοπή, διάτρηση, επίστρωση
Βασικά χαρακτηριστικά
  • Λεπτή λωρίδα ακριβείας λείανσης και στίλβωσης: Το μακρύ, λεπτό κενό φινίρεται με υψηλή ποιότητα επιφάνειας και επιπεδότητα για οπτική στήριξη.
  • Στενές διαστατικές ανοχές: Το μήκος, το πλάτος και το πάχος ελέγχονται εντός στενών ορίων για αξιόπιστη συναρμολόγηση.
  • Χωρίς καθίζηση σε μακροχρόνια χρήση σε υψηλές θερμοκρασίες: Το καθαρό υλικό ζαφειριού δεν απελευθερώνει ρύπους σε χρήση υψηλής θερμοκρασίας.
  • Εξαιρετική μονωτική απόδοση: Η εξαιρετική ηλεκτρική μόνωση υποστηρίζει τη χρήση σε ευαίσθητα ηλεκτρονικά και οπτικά συστήματα.
  • Υψηλότερη μηχανική αντοχή και αντοχή στη φθορά από το τήγμα πυριτίου: Το ανθεκτικό υπόστρωμα αντέχει σε κρούσεις, φθορά και ζημιές κατά τον χειρισμό.
  • Προσαρμόσιμη επεξεργασία: Μονή ή διπλή πλευρική στίλβωση, εγκοπή, διάτρηση και επίστρωση μπορούν να προσαρμοστούν στις απαιτήσεις.
Εφαρμογή

Το υπόστρωμα ζαφειριού έχει σχεδιαστεί για οπτικά συστήματα, συστήματα λέιζερ και συστήματα ανίχνευσης που απαιτούν μια ισχυρή, σταθερή και ακριβώς διαστασιολογημένη πλατφόρμα. Χρησιμοποιείται ευρέως ως παράθυρο οπτικών οργάνων ακριβείας, παρέχοντας ένα ανθεκτικό, διαφανές άνοιγμα για τη μετάδοση φωτός. Σε συστήματα λέιζερ, το υπόστρωμα λειτουργεί ως υπόστρωμα φορέα για εξοπλισμό λέιζερ, υποστηρίζοντας εξαρτήματα με εξαιρετική θερμική και μηχανική σταθερότητα. Το εξάρτημα υιοθετείται επίσης ως πλάκα παρατήρησης επιθεώρησης υψηλής θερμοκρασίας, επιτρέποντας την παρατήρηση διαδικασιών σε αυξημένες θερμοκρασίες. Σε συστήματα ανίχνευσης, λειτουργεί ως υπόστρωμα μετάδοσης φωτός για αισθητήρες, συνδυάζοντας οπτική διαύγεια με ηλεκτρική μόνωση. Επιπλέον, το υπόστρωμα χρησιμοποιείται ως οπτικό εξάρτημα για φασματικούς αναλυτές, παρέχοντας σταθερή απόδοση σε παρτίδες.

Πλεονεκτήματα
  • Ακριβείας λείανση και στίλβωση για κενά λεπτής λωρίδας: Οι στενές διαστατικές ανοχές εξασφαλίζουν ακριβή εφαρμογή σε συναρμολογήσεις ακριβείας.
  • Χωρίς καθίζηση και εξαιρετική μόνωση: Η μακροχρόνια χρήση σε υψηλές θερμοκρασίες διατηρεί το υπόστρωμα καθαρό και ηλεκτρικά ασφαλές.
  • Ανώτερη μηχανική αντοχή και αντοχή στη φθορά: Πολύ ισχυρότερο από το τήγμα πυριτίου, το υπόστρωμα αντέχει σε γρατζουνιές και κρούσεις.
  • Πλήρης προσαρμογή: Διατίθενται διαδικασίες στίλβωσης, εγκοπής, διάτρησης και επίστρωσης για να ταιριάζουν στις ανάγκες της εφαρμογής.
  • Σταθερή οπτική απόδοση σε μαζική παραγωγή: Η ομοιομορφία παρτίδας παρέχει επαναλήψιμα αποτελέσματα για εφαρμογές όγκου.