-
Γυαλί Οπτικού Χαλαζία
-
Επεξεργασία Γυαλιού Χαλαζία
-
Σωλήνας γυαλιού χαλαζία
-
Τριχοειδής σωλήνας Quartz
-
Σωλήνας από βοριοπυριτικό γυαλί
-
Γυάλινη Ράβδος Χαλαζία
-
Ανταλλακτικά Laser
-
Στόχος διασκορπισμού διοξειδίου του πυριτίου
-
Συσκευή χαλαζία
-
Πιάτο γυαλιού χαλαζία
-
Προσαρμοσμένα γυάλινα μέρη
-
Προσαρμοσμένα Κεραμικά Μέρη
-
Οπτικός εξοπλισμός κατασκευής
-
Κινητή κάλυψη γυαλιού που κατασκευάζει τη μηχανή
-
Οπτική όργανο μέτρησης
-
Οπτικό κρύσταλλο
36x32x580mm Υψηλής Αγνότητας Κουάρτζιο Όργανο Αντίσταση στη Θέρμανση Αστική Αλκαλική Απόδειξη Για Καθαρισμό Διστίλλωσης Εργαστηρίου
| Υλικό | Τετηγμένο πυρίτιο υψηλής καθαρότητας (SiO2 > 99,99%) | Διαστάσεις | 36mm x 32mm x 580mm |
|---|---|---|---|
| Μέγιστη θερμοκρασία λειτουργίας | 1100°C | Χημική Αντίσταση | HF, Ισχυρό Οξύ & Αλκάλια, Οργανικοί Διαλύτες |
| Αντοχή σε θερμικό σοκ | Εξαιρετικό, Χαμηλό CTE 5,5 x 10^-7 /°C | Διαπερατότητα | Εύρος UV-Visible |
| Καθαρότητα | Χωρίς καθίζηση μεταλλικών ιόντων | Εφαρμογή | Απόσταξη εργαστηρίου, λεπτός χημικός καθαρισμός, προεπεξεργασία ημιαγωγών, περιβαλλοντική πέψη |
| Επισημαίνω | 36x32x580 χιλιοστών,υψηλής καθαρότητας,χημικής καθαρότητας. |
||
Επισκόπηση προϊόντος
ΟΌργανο χαλαζία υψηλής καθαρότητας(36mm x 32mm x 580mm) είναι ένα ευέλικτο δοχείο από γυαλί χαλαζία σχεδιασμένο για απαιτητικές χημικές, ημιαγωγικές και περιβαλλοντικές εφαρμογές. Κατασκευασμένο από συντηγμένο πυρίτιο υψηλής ποιότητας (SiO2 > 99,99%), προσφέρει εξαιρετική θερμική σταθερότητα έως και 1100°C, εξαιρετική χημική αδράνεια έναντι HF και ισχυρά διαβρωτικά μέσα και μηδενική καθίζηση μεταλλικών ιόντων — καθιστώντας το την προτιμώμενη επιλογή για χημική επεξεργασία και ανάλυση ροής υψηλής καθαρότητας.
Βασικά Χαρακτηριστικά
- 1100°C Αντίσταση σε υψηλή θερμοκρασία:Κατάλληλο για άμεση φλόγα και ηλεκτρική θέρμανση. διατηρεί τη δομική ακεραιότητα υπό ακραίες θερμικές συνθήκες χωρίς παραμόρφωση
- Ισχυρή αντίσταση σε οξέα και αλκάλια:Εξαιρετική χημική αντοχή έναντι υδροφθορικού οξέος, συμπυκνωμένων οξέων, ισχυρών αλκαλίων και οργανικών διαλυτών
- Υψηλή καθαρότητα χωρίς καθίζηση μετάλλων:SiO2 > 99,99% με έκπλυση μηδενικών ιόντων, αποτρέποντας τη μόλυνση του δείγματος σε ευαίσθητες διεργασίες ανάλυσης και καθαρισμού
- Εξαιρετική αντίσταση σε θερμικό σοκ:Ο χαμηλός συντελεστής θερμικής διαστολής αποτρέπει το ράγισμα κατά τη διάρκεια γρήγορων κύκλων θέρμανσης-ψύξης, πολύ ανώτερος από το βοριοπυριτικό γυαλί
- Υψηλή διαπερατότητα:Εξαιρετική οπτική διαύγεια σε όλο το εύρος ορατών υπεριωδών ακτίνων για οπτική παρακολούθηση αντιδράσεων και διεργασιών
Εφαρμογές
| Βιομηχανία | Εφαρμογή |
|---|---|
| Εργαστηριακή Χημεία | Δοχείο αντίδρασης απόσταξης και αναρροής υψηλής θερμοκρασίας για HF και συμπυκνωμένα αντιδραστήρια οξέος/αλκαλίου υπό άμεση φλόγα ή ηλεκτρική θέρμανση. χρησιμοποιείται για καθαρισμό υλικού και φυσικοχημική ανάλυση |
| Εκλεκτά Χημικά & Νέα Υλικά | Δοχείο καθαρισμού υγρής σύνθεσης και παστοποίησης οξέος για πρώτες ύλες υψηλής καθαρότητας. αποτρέπει το ντόπινγκ μεταλλικών ακαθαρσιών για να εξασφαλίσει την καθαρότητα του τελικού προϊόντος |
| Βιομηχανία Ημιαγωγών | Δοχείο απόσταξης αντιδραστηρίων ηλεκτρονικής ποιότητας και προεπεξεργασίας πρώτων υλών. πληροί τις εξαιρετικά καθαρές απαιτήσεις κατασκευής ηλεκτρονικών υλικών |
| Περιβαλλοντικές Δοκιμές | Κυψέλη πέψης υψηλής θερμοκρασίας για προεπεξεργασία δειγμάτων απόβλητων αερίων και υγρών. ανθεκτικό στη διάβρωση έναντι επιθετικών αντιδραστηρίων πέψης |
Ανταγωνιστικά Πλεονεκτήματα
vs. Όργανο Βοροπυριτικού Γυαλιού:Αντέχει σε υδροφθορικό οξύ και συνεχή λειτουργία στους 1100°C έναντι ορίου ~500°C. Η εξαιρετική αντοχή σε θερμικό σοκ αποτρέπει το ράγισμα σε γρήγορες αλλαγές θερμοκρασίας. Η εξαιρετικά υψηλή καθαρότητα εξαλείφει την καθίζηση ιόντων και τη μόλυνση του δείγματος
έναντι οργάνου PTFE/Teflon:Κατάλληλο για εφαρμογές σε υψηλές θερμοκρασίες όπου το PTFE μαλακώνει πάνω από 260°C. Ο διαφανής τοίχος επιτρέπει την οπτική παρακολούθηση της διαδικασίας. Η άκαμπτη δομή διατηρεί τη σταθερότητα των διαστάσεων υπό θερμικό κύκλο
Προδιαγραφές
| Παράμετρος | Αξία |
|---|---|
| Υλικό | Τετηγμένο πυρίτιο υψηλής καθαρότητας (SiO2 > 99,99%) |
| Διαστάσεις | 36mm x 32mm x 580mm |
| Μέγιστη θερμοκρασία λειτουργίας | 1100°C |
| Χημική Αντίσταση | HF, Ισχυρό Οξύ & Αλκάλια, Οργανικοί Διαλύτες |
| Αντοχή σε θερμικό σοκ | Εξαιρετικό, Χαμηλό CTE 5,5 x 10^-7 /°C |
| Διαπερατότητα | Εύρος UV-Visible |
| Καθαρότητα | Χωρίς καθίζηση μεταλλικών ιόντων |

